Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd., con sede a Ningbo, provincia di Zhejiang, Cina, è stata fondata nel gennaio 2018. La nostra missione è plasmare il futuro attraverso i materiali e la nostra visione è diventare un'azienda leader nel settore dei nuovi materiali con tecnologie chiave nel settore. campo dei semiconduttori.Siamo specializzati nella ricerca e nello sviluppo di tecnologie avanzate come rivestimenti SiC, rivestimenti Tac, rivestimenti in carbonio pirolitico, CVD SiC (Solid SiC) e carburo di silicio ricristallizzato, che sono fondamentali per l'industria dei semiconduttori.Ci concentriamo anche sulla produzione su larga scala di prodotti materiali di elevata purezza.

Onore e certificazione

Strutture e Laboratori

Forno CVD ad alta temperatura

Substrati di rivestimento per epitassia di chip LED, epitassia di wafer di silicio, substrati e componenti di epitassia per semiconduttori di terza generazione, rivestimenti TaC e altro ancora.

Forno di purificazione sotto vuoto

Purificazione di elementi a base di carbonio come grafite, feltro di carbonio, polvere di grafite e composito di carbonio.

Forno di grafitizzazione orizzontale

Utilizzato principalmente per il trattamento ad alta temperatura di materiali in carbonio, come sinterizzazione e grafitizzazione di materiali in carbonio, grafitizzazione di film PI, sinterizzazione di materiali conduttori termici, sinterizzazione e grafitizzazione di corde in fibra di carbonio, grafitizzazione di filamenti in fibra di carbonio, purificazione di polvere di grafite, e altri materiali adatti alla grafitizzazione dell'ambiente di carbonio.