-
Ingranaggio della ruota con rivestimento SiC: miglioramento dell'efficienza nella produzione di semiconduttori
Nel campo in rapido progresso della produzione di semiconduttori, la precisione e la durata delle apparecchiature sono fondamentali per ottenere rendimenti e qualità elevati. Uno dei componenti chiave che garantiscono questo è l'ingranaggio della ruota di rivestimento in SiC, progettato per migliorare l'efficienza dei processi...Per saperne di più -
Cos'è un tubo di protezione al quarzo? | Semicera
Il tubo di protezione al quarzo è un componente essenziale in diverse applicazioni industriali, noto per le sue eccellenti prestazioni in condizioni estreme. In Semicera produciamo tubi di protezione al quarzo progettati per elevata durata e affidabilità in ambienti difficili. Dal carattere eccezionale...Per saperne di più -
Cos'è il tubo di processo rivestito in CVD? | Semicera
Un tubo di processo rivestito CVD è un componente critico utilizzato in vari ambienti di produzione ad alta temperatura e purezza elevata, come la produzione di semiconduttori e fotovoltaica. Noi di Semicera siamo specializzati nella produzione di tubi di processo rivestiti CVD di alta qualità che offrono...Per saperne di più -
Cos'è la grafite isostatica? | Semicera
La grafite isostatica, nota anche come grafite formata isostatica, si riferisce a un metodo in cui una miscela di materie prime viene compressa in blocchi rettangolari o rotondi in un sistema chiamato pressatura isostatica a freddo (CIP). La pressatura isostatica a freddo è un metodo di lavorazione dei materiali...Per saperne di più -
Cos'è il carburo di tantalio? | Semicera
Il carburo di tantalio è un materiale ceramico estremamente duro noto per le sue proprietà eccezionali, in particolare in ambienti ad alta temperatura. Noi di Semicera siamo specializzati nella fornitura di carburo di tantalio di alta qualità che offre prestazioni superiori in settori che richiedono materiali avanzati per ...Per saperne di più -
Che cos'è un tubo centrale del forno al quarzo? | Semicera
Il tubo centrale di un forno al quarzo è un componente essenziale in vari ambienti di lavorazione ad alta temperatura, ampiamente utilizzato in settori come la produzione di semiconduttori, la metallurgia e la lavorazione chimica. Noi di Semicera siamo specializzati nella produzione di tubi centrali per forni al quarzo di alta qualità, noti...Per saperne di più -
Processo di incisione a secco
Il processo di incisione a secco consiste solitamente di quattro stati base: prima dell'incisione, incisione parziale, incisione e sovraincisione. Le caratteristiche principali sono la velocità di incisione, la selettività, la dimensione critica, l'uniformità e il rilevamento del punto finale. Figura 1 Prima dell'incisione Figura 2 Incisione parziale Figura...Per saperne di più -
Paletta SiC nella produzione di semiconduttori
Nel campo della produzione dei semiconduttori, il Paddle SiC svolge un ruolo cruciale, in particolare nel processo di crescita epitassiale. Essendo un componente chiave utilizzato nei sistemi MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), le palette SiC sono progettate per resistere alle alte temperature e ...Per saperne di più -
Cos'è il Wafer Paddle? | Semicera
Una pala per wafer è un componente cruciale utilizzato nell'industria dei semiconduttori e nel fotovoltaico per gestire i wafer durante i processi ad alta temperatura. Noi di Semicera siamo orgogliosi delle nostre capacità avanzate di produrre paddle per wafer di alta qualità che soddisfano le rigorose esigenze di...Per saperne di più -
Processi e apparecchiature per semiconduttori(7/7) - Processi e apparecchiature per la crescita di film sottili
1. Introduzione Il processo di fissaggio delle sostanze (materie prime) alla superficie dei materiali del substrato mediante metodi fisici o chimici è chiamato crescita del film sottile. Secondo diversi principi di funzionamento, la deposizione del film sottile del circuito integrato può essere suddivisa in:-Deposizione fisica da vapore ( P...Per saperne di più -
Processi e apparecchiature per semiconduttori(6/7)- Processi e apparecchiature per l'impianto di ioni
1. Introduzione L'impianto ionico è uno dei processi principali nella produzione di circuiti integrati. Si riferisce al processo di accelerazione di un fascio ionico a una certa energia (generalmente nell'intervallo da KeV a MeV) e quindi di iniezione nella superficie di un materiale solido per modificare la proprietà fisica...Per saperne di più -
Processi e apparecchiature per semiconduttori(5/7)- Processo e apparecchiature di incisione
Una introduzione L'incisione nel processo di produzione dei circuiti integrati è suddivisa in:-incisione a umido;-incisione a secco. All'inizio, l'incisione a umido era ampiamente utilizzata, ma a causa dei limiti nel controllo della larghezza della linea e nella direzionalità dell'incisione, la maggior parte dei processi dopo 3μm utilizza l'incisione a secco. L'incisione ad umido è...Per saperne di più