Substrato wafer lucidato su entrambi i lati HPSI SiC semi-isolante ad alta purezza da 4 pollici

Breve descrizione:

I substrati wafer lucidati a doppio lato SiC semi-isolanti ad alta purezza (HPSI) da 4 pollici di Semicera sono progettati con precisione per prestazioni elettroniche superiori. Questi wafer forniscono eccellente conduttività termica e isolamento elettrico, ideali per applicazioni avanzate di semiconduttori. Affidati a Semicera per qualità e innovazione senza precedenti nella tecnologia dei wafer.


Dettagli del prodotto

Tag dei prodotti

I substrati wafer lucidati a doppio lato SiC semiisolanti ad alta purezza (HPSI) da 4 pollici di Semicera sono realizzati per soddisfare le esigenti richieste dell'industria dei semiconduttori. Questi substrati sono progettati con planarità e purezza eccezionali, offrendo una piattaforma ottimale per dispositivi elettronici all'avanguardia.

Questi wafer SiC HPSI si distinguono per le loro proprietà di conduttività termica e isolamento elettrico superiori, che li rendono una scelta eccellente per applicazioni ad alta frequenza e ad alta potenza. Il processo di lucidatura su entrambi i lati garantisce una ruvidità superficiale minima, fondamentale per migliorare le prestazioni e la longevità del dispositivo.

L'elevata purezza dei wafer SiC di Semicera riduce al minimo i difetti e le impurità, garantendo tassi di rendimento e affidabilità del dispositivo più elevati. Questi substrati sono adatti per un'ampia gamma di applicazioni, inclusi dispositivi a microonde, elettronica di potenza e tecnologie LED, dove precisione e durata sono essenziali.

Con particolare attenzione all'innovazione e alla qualità, Semicera utilizza tecniche di produzione avanzate per produrre wafer che soddisfano i severi requisiti dell'elettronica moderna. La lucidatura su due lati non solo migliora la resistenza meccanica ma facilita anche una migliore integrazione con altri materiali semiconduttori.

Scegliendo i substrati wafer lucidati su entrambi i lati HPSI SiC semiisolanti ad alta purezza da 4 pollici di Semicera, i produttori possono sfruttare i vantaggi di una migliore gestione termica e isolamento elettrico, aprendo la strada allo sviluppo di dispositivi elettronici più efficienti e potenti. Semicera continua a guidare il settore con il suo impegno per la qualità e il progresso tecnologico.

Elementi

Produzione

Ricerca

Manichino

Parametri di cristallo

Politipo

4H

Errore di orientamento della superficie

<11-20 >4±0,15°

Parametri Elettrici

Dopante

Azoto di tipo n

Resistività

0,015-0,025ohm·cm

Parametri meccanici

Diametro

150,0±0,2 mm

Spessore

350±25μm

Orientamento piatto primario

[1-100]±5°

Lunghezza piatta primaria

47,5±1,5 mm

Appartamento secondario

Nessuno

TTV

≤5μm

≤10μm

≤15μm

LTV

≤3μm(5mm*5mm)

≤5μm(5mm*5mm)

≤10μm(5mm*5mm)

Arco

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Ordito

≤35μm

≤45μm

≤55μm

Rugosità anteriore (Si-face) (AFM)

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Struttura

Densità del microtubo

<1 pezzo/cm2

<10 pezzi/cm2

<15 pezzi/cm2

Impurità metalliche

≤5E10atomi/cm2

NA

BPD

≤1500 ciascuno/cm2

≤3000 ciascuno/cm2

NA

TSD

≤500 ciascuno/cm2

≤1000 ciascuno/cm2

NA

Qualità frontale

Fronte

Si

Finitura superficiale

Si-face CMP

Particelle

≤60 pezzi/wafer (dimensione≥0,3μm)

NA

Graffi

≤5 pezzi/mm. Lunghezza cumulativa ≤Diametro

Lunghezza cumulativa ≤2*Diametro

NA

Buccia d'arancia/noccioli/macchie/striature/crepe/contaminazione

Nessuno

NA

Scheggiature/rientranze/fratture/piastre esagonali sui bordi

Nessuno

Aree di politipo

Nessuno

Area cumulativa ≤ 20%

Area cumulativa ≤ 30%

Marcatura laser frontale

Nessuno

Indietro Qualità

Finitura posteriore

CMP faccia C

Graffi

≤5ea/mm, lunghezza cumulativa≤2*Diametro

NA

Difetti sul retro (scheggiature/rientranze sui bordi)

Nessuno

Rugosità della schiena

Ra≤0,2 nm (5μm*5μm)

Marcatura laser sul retro

1 mm (dal bordo superiore)

Bordo

Bordo

Smussare

Confezione

Confezione

Epi-ready con confezionamento sottovuoto

Confezione in cassetta multi-wafer

*Note: "NA" significa nessuna richiesta. Gli articoli non menzionati possono fare riferimento a SEMI-STD.

tech_1_2_size
Wafer SiC

  • Precedente:
  • Prossimo: