Anello SiC CVD sfuso

Breve descrizione:

Gli anelli SiC CVD sfusi utilizzano gas di origine silicio (come l'idruro di silicio) e gas di origine carbonio (come il metano) come materie prime, reagendo ad alta temperatura per depositare materiali SiC di grandi dimensioni su un substrato o uno stampo. Questo processo consente al SiC di depositarsi uniformemente su un'ampia area, formando una struttura ad anello forte e coerente.

 


Dettagli del prodotto

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Perché l'anello di incisione in carburo di silicio?

RTPAnelli SiC CVDsono ampiamente utilizzati in campi industriali e scientifici in ambienti ad alta temperatura e corrosivi. Svolge un ruolo importante nella produzione di semiconduttori, nell'optoelettronica, nei macchinari di precisione e nell'industria chimica. Le applicazioni specifiche includono:

1. Produzione di semiconduttori:Anelli SiC RTP CVDpuò essere utilizzato per il riscaldamento e il raffreddamento di apparecchiature a semiconduttore, fornendo un controllo stabile della temperatura e garantendo l'accuratezza e la coerenza del processo.

2. Optoelettronica: grazie alla sua eccellente conduttività termica e resistenza alle alte temperature, RTPAnelli SiC CVDpossono essere utilizzati come materiali di supporto e dissipazione del calore per laser, apparecchiature di comunicazione in fibra ottica e componenti ottici.

3. Macchinari di precisione: gli anelli SiC RTP CVD possono essere utilizzati per strumenti e apparecchiature di precisione in ambienti corrosivi e ad alta temperatura, come forni ad alta temperatura, dispositivi a vuoto e reattori chimici.

4. Industria chimica: grazie alla loro resistenza alla corrosione e stabilità chimica, gli anelli SiC RTP CVD possono essere utilizzati in contenitori, tubi e reattori in reazioni chimiche e processi catalitici.

 

Sistema Epi

Sistema Epi

Sistema RTP

Sistema RTP

Sistema CVD

Sistema CVD

Prestazioni del prodotto:

1. Soddisfa il processo inferiore a 28 nm

2. Eccellente resistenza alla corrosione

3. Prestazioni super pulite

4. Super durezza

5. Alta densità

6. Resistenza alle alte temperature

7. Resistenza all'usura

attrezzature per la produzione del quarzo 4

Applicazione del prodotto:

I materiali in carburo di silicio hanno le caratteristiche di elevata durezza, resistenza all'usura, resistenza alla corrosione e stabilità alle alte temperature. I prodotti con eccellenti prestazioni complete sono ampiamente utilizzati nei processi di incisione a secco e TF/diffusione.

Prestazioni del prodotto:

1. Soddisfa il processo inferiore a 28 nm

2. Eccellente resistenza alla corrosione

3. Prestazioni super pulite

4. Super durezza

5. Alta densità

6. Resistenza alle alte temperature

7. Resistenza all'usura

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Sviluppo del processo composito:

Rivestimento in grafite + Sic

Solido CVD sic

SiC+CVD sinterizzato

SiCSiC sinterizzato

Sviluppo di molteplici tipologie di prodotto:

Squillo

Tavolo

Suscettore

Soffione doccia

Luogo di lavoro Semicera
Luogo di lavoro Semicera 2
Magazzino Semicera
Macchina per attrezzature
Lavorazione CNN, pulizia chimica, rivestimento CVD
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