ILSerbatoio di puliziadi Semicera è una soluzione ad alte prestazioni per la pulizia e la lavorazione dei wafer semiconduttori. Progettato per durabilità e precisione, questo serbatoio è l'ideale perwaferlavorazione a umido, fornendo un ambiente affidabile sia per l'incisione chimica a umido che perwaferpulizia. Costruito con materiali di qualità superiore, il serbatoio di pulizia Semicera eccelle nel gestire le esigenze del processo di pulizia dei semiconduttori, compresi i metodi di incisione a secco e a umido, garantendo la massima efficienza e pulizia.
Nell'industria dei semiconduttori, la precisione è fondamentale e ilSerbatoio di puliziaoffre un'eccezionale resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici aggressivi, rendendolo un componente prezioso nei metodi di pulizia dei wafer. Sia che venga utilizzato in bagni di quarzo o in vasche di quarzo autonome, questo prodotto aiuta a mantenere l'integrità e la pulizia dei wafer durante tutte le fasi di lavorazione. È particolarmente adatto per processi critici di incisione a umido, garantendo risultati coerenti e affidabili per i produttori di semiconduttori.
Con la tecnologia e il design all'avanguardia di Semicera, ilSerbatoio di puliziasupporta un processo di pulizia dei semiconduttori senza soluzione di continuità, rendendolo la scelta migliore per chi cerca qualità, durata e precisione nelle apparecchiature per la gestione e la lavorazione dei wafer.
Possiamo gestire varie forme in base alle vostre esigenze, spaziando dal singolo grande al matrimonialequarzobagni di piccole dimensioniquarzocrogioli. Inoltremateriali al quarzo, possiamo lavorare anche contenitori in vetro duro.
·Utilizzato per i processi di pulizia a umido dei wafer.
·Slot singolo/doppio slot (slot di troppopieno).
·Può produrre fino a 12 pollici.
