Parti del processo di incisione

Rivestimento ceramico al carburo di silicio
Supporti di rivestimento SiC per l'attacco di semiconduttori
Supporto SiC per trattamento termico a riscaldamento rapido RTP/RTA
Supporto di elaborazione PSS per la trasmissione di wafer semiconduttori
Vassoio ICP per semiconduttori personalizzato (incisione)
Vassoio per cuscinetti in carburo di silicio con incisione LED, vassoio ICP (Etch)
Vassoio per incisione in carburo di silicio LED resistente alle alte temperature e alla corrosione (vassoio per incisione ICP)
Piastra portante RTA in carburo di silicio per semiconduttore
Vassoi portaperni SiC per processi di incisione ICP nell'industria dei LED