Tubo del forno in carburo di silicio resistente alle alte temperature con buona stabilità

Breve descrizione:

WeiTai Energy Technology Co., Ltd. è un fornitore leader specializzato in wafer e materiali di consumo per semiconduttori avanzati.Ci impegniamo a fornire prodotti di alta qualità, affidabili e innovativi alla produzione di semiconduttori,settore fotovoltaicoe altri campi correlati.

La nostra linea di prodotti comprende prodotti in grafite rivestita SiC/TaC e prodotti ceramici, che comprendono vari materiali come carburo di silicio, nitruro di silicio e ossido di alluminio ecc.

In qualità di fornitore affidabile, comprendiamo l'importanza dei materiali di consumo nel processo di produzione e ci impegniamo a fornire prodotti che soddisfino i più elevati standard di qualità per soddisfare le esigenze dei nostri clienti.

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Il carburo di silicio è un nuovo tipo di ceramica con prestazioni ad alto costo ed eccellenti proprietà del materiale. Grazie a caratteristiche quali elevata resistenza e durezza, resistenza alle alte temperature, ottima conduttività termica e resistenza alla corrosione chimica, il carburo di silicio può resistere quasi a tutti i mezzi chimici. Pertanto, il SiC è ampiamente utilizzato nell'estrazione petrolifera, nel settore chimico, nei macchinari e nello spazio aereo, anche nell'energia nucleare e l'esercito ha le sue esigenze speciali sul SIC. Alcune normali applicazioni che possiamo offrire sono anelli di tenuta per pompe, valvole, armature protettive, ecc.

Siamo in grado di progettare e produrre secondo le vostre dimensioni specifiche con buona qualità e tempi di consegna ragionevoli.

Possiamo fornire stabilità e affidabilitàimbarcazioni in cristallo di carburo di silicio,pale in carburo di silicio,tubi per forni in carburo di silicioper l'industria dei wafer per semiconduttori da 4 a 6 pollici. La purezza può raggiungere il 99,9% senza inquinare il wafer.

Tubo di diffusione in carburo di silicio (2)

Tubo del forno in carburo di silicioviene utilizzato principalmente per: wafer di silicio da 4-6 pollici LTO= silice, SIPOS= ossipolisilicio, SI3N4= nitruro di silicio, PSG= vetro al fosfosilicio, POLY= crescita della pellicola di polisilicio. È il gas della materia prima (o gassificazione da fonte liquida) attivato dall'energia termica per generare una pellicola solida sulla superficie del substrato. La deposizione di vapore chimico a bassa pressione viene effettuata a bassa pressione, a causa della bassa pressione, il percorso libero medio delle molecole di gas è ampio, in modo che l'uniformità della pellicola cresciuta sia buona e il substrato possa essere posizionato verticalmente e la quantità di il carico è ampio, particolarmente adatto per circuiti integrati su larga scala, dispositivi discreti, elettronica di potenza, dispositivi optoelettronici e fibra ottica e altri settori di attrezzature speciali per la produzione industriale.

Applicazioni:

-Campo resistente all'usura: boccola, piastra, ugello di sabbiatura, rivestimento del ciclone, cilindro di macinazione, ecc...

-Campo ad alta temperatura: lastra siC, tubo del forno di tempra, tubo radiante, crogiolo, elemento riscaldante, rullo, trave, scambiatore di calore, tubo dell'aria fredda, ugello del bruciatore, tubo di protezione della termocoppia, barca SiC, struttura del carrello del forno, setter, ecc.

-Campo militare antiproiettile

-Semiconduttore in carburo di silicio: barca wafer SiC, mandrino sic, pagaia sic, cassetta sic, tubo di diffusione sic, forcella wafer, piastra di aspirazione, guida, ecc.

-Campo di tenuta in carburo di silicio: tutti i tipi di anelli di tenuta, cuscinetti, boccole, ecc.

-Campo fotovoltaico: pala a sbalzo, cilindro di macinazione, rullo in carburo di silicio, ecc.

-Campo di batterie al litio