Descrizione
La nostra azienda fornisce servizi di processo di rivestimento SiC con metodo CVD sulla superficie di grafite, ceramica e altri materiali, in modo che gas speciali contenenti carbonio e silicio reagiscano ad alta temperatura per ottenere molecole SiC di elevata purezza, molecole depositate sulla superficie dei materiali rivestiti, formando lo strato protettivo SIC.
Caratteristiche principali
1. Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura:
la resistenza all'ossidazione è ancora molto buona anche quando la temperatura arriva fino a 1600 C.
2. Elevata purezza: prodotto mediante deposizione di vapori chimici in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
3. Resistenza all'erosione: elevata durezza, superficie compatta, particelle fini.
4. Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC
| Proprietà SiC-CVD | ||
| Struttura cristallina | Fase β dell'FCC | |
| Densità | g/cm³ | 3.21 |
| Durezza | Durezza Vickers | 2500 |
| Granulometria | µm | 2~10 |
| Purezza chimica | % | 99.99995 |
| Capacità termica | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Temperatura di sublimazione | ℃ | 2700 |
| Forza flessionale | MPa (RT 4 punti) | 415 |
| Modulo di Young | Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃) | 430 |
| Dilatazione Termica (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Conduttività termica | (W/mK) | 300 |
-
Utensile in grafite rivestita in carburo di silicio, per...
-
Basi per reattori epitassiali rivestiti in carburo di silici...
-
Supporto per wafer Epi GAN rivestito in SiC
-
Dischi Wafer epitassiali in carburo di silicio per VEECO...
-
Rivestimento SiC Deposizione epitassiale di silicio in...
-
Camera di reazione a mezzaluna LPE