Piastra per barca orizzontale in carburo di silicio

Breve descrizione:

Semicera fornisce imbarcazioni per wafer, titolaree supporti wafer personalizzati per configurazioni verticali/a colonna e orizzontali. Le ceramiche avanzate forniscono un'eccellente resistenza al calore e durata del plasma, riducendo al contempo particelle e sostanze inquinanti. Il carburo di silicio (SiC) di grado semiconduttore fornisce anche resistenza alle alte temperature per supporti wafer ad alta capacità.

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Presentiamo la nostra piastra per barca orizzontale in carburo di silicio all'avanguardia, meticolosamente progettata per le applicazioni di lavorazione dei wafer dell'industria dei semiconduttori. Realizzata con il miglior carburo di silicio, la nostra piastra orizzontale per barche si distingue per le sue proprietà termiche, resistenza chimica e forza meccanica superiori. Ideale per processi ad alta temperatura, questa piastra per barca è progettata per offrire prestazioni eccezionali, garantendo precisione ed efficienza in ogni utilizzo.

Caratteristiche principali

Durata eccezionale:Realizzato in carburo di silicio di elevata purezza, il nostro targa della barcaè progettato per resistere a temperature estreme fino a1600°C, offrendo una durata e una durata senza pari.

Distribuzione uniforme del calore:La conduttività termica del carburo di silicio garantisce una distribuzione uniforme del calore sulla piastra, fondamentale per mantenere la coerenza del processo e ottenere una produzione di wafer di alta qualità.

Resistenza chimica:Resistente agli agenti chimici corrosivi e agli ambienti difficili, la nostra piastra per barche mantiene l'integrità e le prestazioni, anche nelle applicazioni di lavorazione dei semiconduttori più impegnative.

Elevata resistenza meccanica:La costruzione robusta del nstarga della barcagarantisce un'ottima robustezza meccanica e resistenza all'usura, riducendo il rischio di danneggiamenti e la necessità di frequenti sostituzioni.

Applicazioni:

NostroPiastra per barca orizzontale in carburo di silicioè perfetto per un'ampia gamma di processi ad alta temperatura nella produzione di semiconduttori, inclusi ma non limitati a processi di diffusione, ossidazione, impianto ionico e CVD.Il suo design e i suoi materiali garantiscono che possa supportare i requisiti precisi della lavorazione dei wafer, rendendolo un componente essenziale per le linee di produzione di semiconduttori.

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