Il nostro LPCVD(Deposizione chimica da vapore a bassa pressione)Barca in carburo di silicioè progettato con una tecnologia all'avanguardia, progettata per il processo di produzione di semiconduttori ad alta temperatura. Questa alta qualitàbarca in carburo di siliciooffre prestazioni e affidabilità eccezionali in condizioni estreme, rendendolo la scelta ideale per la fabbricazione di semiconduttori e altri processi ad alta temperatura.
Stabilità alle alte temperature:Nostrobarca in carburo di silicioresiste a temperature fino a1700°C, garantendo stabilità e prestazioni in operazioni continue ad alta temperatura.
Inerzia chimica:Con un'eccezionale stabilità chimica, resiste alla corrosione di acidi, basi e altri prodotti chimici corrosivi, garantendo durata nell'uso a lungo termine.
Conduttività termica superiore:L'elevata conduttività termica garantisce una distribuzione uniforme della temperatura su tutta l'imbarcazione, contribuendo a migliorare la qualità e la consistenza del prodotto.
Forza e resistenza all'usura:L'eccezionale robustezza meccanica e resistenza all'usura consentono un uso continuo senza danni, riducendo la frequenza e i costi di sostituzione.
Applicazioni:
Adatto a vari processi ad alta temperatura, inclusi ma non limitati alla produzione di semiconduttori, alla produzione di celle solari e alle operazioni con forni ad alta temperatura. Le sue elevate prestazioni e affidabilità lo rendono la scelta ideale per queste applicazioni esigenti.
Perché scegliereIl nostro LPCVDBarca in carburo di silicio?
Ci impegniamo a fornire i più alti standard di prodotti e servizi.Il nostro LPCVDBarca in carburo di silicionon solo fornisce prestazioni e durata eccezionali, ma aiuta anche a ottimizzare l'efficienza e la qualità della produzione, riducendo i costi operativi. Scegliere noi significa scegliere un partner di fiducia per far avanzare la tua attività.