Il supporto per wafer in carburo di silicio può essere utilizzato non solo per il supporto RTP, il suscettore epitassiale LED e il suscettore a barilotto, ma supporta anche un carico stabile nel processo di produzione del silicio monocristallino. Questo prodotto funziona bene anche nei suscettori pancake e nelle parti fotovoltaiche ed è particolarmente adatto per l'uso nel processo di GaN su epitassia SiC, migliorando efficacemente l'efficienza produttiva e riducendo i difetti.
Il supporto per wafer in carburo di silicio di Semicera utilizza materiali in carburo di silicio di alta qualità, che non solo hanno un'eccellente resistenza alle alte temperature, ma possono anche rimanere stabili in ambienti corrosivi. Sia nell'ICP Etching Carrier che in altri processi complessi di epitassia e incisione, questo prodotto può garantire un caricamento stabile dei wafer, ridurre lo stress e ottimizzare la qualità di produzione.
Il supporto per wafer in carburo di silicio di Semicera è progettato per processi complessi di epitassia e incisione. Con le sue eccellenti prestazioni e l'elevata durata, è diventata la scelta ideale nella produzione di semiconduttori. Sia che supporti Si Epitaxy o SiC Epitaxy, semicera si impegna a fornire ai clienti prodotti e servizi di prima classe.
Eccellente resistenza al calore e alla corrosione, apparecchiature per la produzione di semiconduttori ampiamente applicabili
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