Semicera fornisce rivestimenti specializzati in carburo di tantalio (TaC) per vari componenti e supporti.Il processo di rivestimento leader di Semicera consente ai rivestimenti in carburo di tantalio (TaC) di raggiungere elevata purezza, stabilità alle alte temperature ed elevata tolleranza chimica, migliorando la qualità del prodotto dei cristalli SIC/GAN e degli strati EPI (Suscettore TaC rivestito in grafite) e prolungare la vita dei componenti chiave del reattore. L'uso del rivestimento TaC in carburo di tantalio serve a risolvere il problema dei bordi e migliorare la qualità della crescita dei cristalli, e Semicera ha risolto in modo rivoluzionario la tecnologia di rivestimento in carburo di tantalio (CVD), raggiungendo il livello avanzato internazionale.
I supporti per wafer rivestiti in carburo di tantalio sono ampiamente utilizzati nei processi di lavorazione e manipolazione dei wafer nei processi di produzione di semiconduttori. Forniscono supporto e protezione stabili per garantire la sicurezza, la precisione e la consistenza dei wafer durante il processo di produzione. I rivestimenti in carburo di tantalio possono prolungare la durata del supporto, ridurre i costi e migliorare la qualità e l'affidabilità dei prodotti a semiconduttori.
La descrizione del supporto per wafer rivestito in carburo di tantalio è la seguente:
1. Selezione del materiale: il carburo di tantalio è un materiale con prestazioni eccellenti, elevata durezza, alto punto di fusione, resistenza alla corrosione ed eccellenti proprietà meccaniche, quindi è ampiamente utilizzato nel processo di produzione di semiconduttori.
2. Rivestimento superficiale: il rivestimento in carburo di tantalio viene applicato alla superficie del supporto del wafer attraverso uno speciale processo di rivestimento per formare un rivestimento in carburo di tantalio uniforme e denso. Questo rivestimento può fornire protezione aggiuntiva e resistenza all'usura, pur avendo una buona conduttività termica.
3. Planarità e precisione: il supporto per wafer rivestito in carburo di tantalio ha un elevato grado di planarità e precisione, garantendo la stabilità e la precisione dei wafer durante il processo di produzione. La planarità e la finitura della superficie del supporto sono fondamentali per garantire la qualità e le prestazioni del wafer.
4. Stabilità della temperatura: i supporti per wafer rivestiti in carburo di tantalio possono mantenere la stabilità in ambienti ad alta temperatura senza deformazioni o allentamenti, garantendo la stabilità e la consistenza dei wafer nei processi ad alta temperatura.
5. Resistenza alla corrosione: i rivestimenti in carburo di tantalio hanno un'eccellente resistenza alla corrosione, possono resistere all'erosione di prodotti chimici e solventi e proteggere il supporto dalla corrosione di liquidi e gas.
con e senza TaC
Dopo aver utilizzato TaC (a destra)
Inoltre, SemiceraProdotti rivestiti in TaCmostrano una durata di servizio più lunga e una maggiore resistenza alle alte temperature rispetto aRivestimenti SiC.Misure di laboratorio hanno dimostrato che il nsRivestimenti TaCpuò funzionare costantemente a temperature fino a 2300 gradi Celsius per periodi prolungati. Di seguito sono riportati alcuni esempi dei nostri campioni:
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Piastra planetaria con rivestimento in carburo di tantalio (TaC).
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Parti personalizzate con rivestimento CVD TaC in carburo di tantalio
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Riscaldatore MOCVD al carburo di tantalio
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Coperchi rivestiti in carburo di tantalio
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Piastra di supporto del piedistallo con rivestimento in carburo di tantalio
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Suscettore wafer con rivestimento CVD TaC in carburo di tantalio