Porta wafer

Breve descrizione:

Semicera fornisce supporti per wafer ad alta precisione progettati per i processi Si Epitaxy e SiC Epitaxy per garantire la stabilità del wafer durante il processo di epitassia. I supporti per wafer di Semicera sono adatti per applicazioni susceptor MOCVD e susceptor barile, che possono migliorare significativamente la precisione e la qualità della produzione di silicio monocristallino.


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Perché il rivestimento in carburo di silicio?

Porta waferè una componente indispensabile nel processo di epitassia. Semicera fornisce il miglior supporto perSi EpitassiaEEpitassia SiCprocessi attraverso una progettazione e una produzione eccellenti. Il nostro supporto per wafer può garantire che il wafer rimanga posizionato con precisione durante il processo di epitassia, garantendo l'uniformità della distribuzione del calore e del flusso d'aria, svolgendo in particolare un ruolo chiave inSuscettore MOCVDESuscettore a canna. Che si tratti della deposizione di silicio monocristallino (silicio monocristallino) o del complesso processo di deposizione chimica da vapore, il supporto per wafer di Semicera può garantire una struttura cristallina di alta qualità e una crescita stabile dello strato epitassiale.

Il supporto per wafer di Semicera è realizzato con materiali di alta qualità resistenti alle alte temperature, con resistenza meccanica e stabilità termica estremamente elevate e può essere utilizzato a lungo in ambienti chimici complessi e ad alta temperatura senza guasti. Soprattutto nelSi EpitassiaEEpitassia SiCprocessi, il supporto per wafer di Semicera riduce il tasso di difetti e la perdita di wafer nel processo attraverso un controllo preciso e un'eccellente selezione dei materiali.

Forniamo personalizzatiWaferSupporti per diversi requisiti di processo e attrezzature, in particolare nelle applicazioni con suscettore MOCVD e suscettore a cilindro. I prodotti Semicera non solo prolungano la vita delle apparecchiature, ma migliorano anche l'efficienza e la stabilità del processo di epitassia, garantendo che la produzione di ciascun wafer soddisfi i rigorosi standard di settore.

Semicera è sempre stata impegnata a fornire ai clienti supporti per wafer ad alte prestazioni, sia per ricerca e sviluppo che per produzione di massa, per soddisfare le diverse esigenze dei clienti nei processi Si Epitaxy e SiC Epitaxy. Continuiamo a innovare per garantire che i clienti possano ottenere la migliore qualità del prodotto e il miglior controllo di processo nel processo di produzione dei semiconduttori.

Il nostro vantaggio, perché scegliere Semicera?

✓Alta qualità nel mercato cinese

 

✓Buon servizio sempre per te, 7*24 ore

 

✓Tempo di consegna breve

 

✓Piccolo MOQ benvenuto e accettato

 

✓Servizi personalizzati

attrezzature per la produzione del quarzo 4

Dati delle prestazioni del SiC Semi-cera' CVD.

Dati sul rivestimento SiC semi-cera CVD
Purezza del sic
Luogo di lavoro Semicera
Luogo di lavoro Semicera 2
Magazzino Semicera
Macchina per attrezzature
Lavorazione CNN, pulizia chimica, rivestimento CVD
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