Portawafer da 6" per Aixtron G5

Breve descrizione:

Il portawafer Aixtron G5 da 6″ di Semicera è un componente progettato con precisione progettato per ottenere prestazioni ottimali nei processi di crescita epitassiale. Costruito appositamente per il sistema Aixtron G5, il supporto garantisce un'eccellente stabilità e una gestione uniforme dei wafer durante i processi ad alta temperatura. Grazie ai materiali avanzati e all'esperienza di Semicera, questo supporto per wafer migliora l'efficienza e l'affidabilità della produzione di semiconduttori, rendendolo uno strumento essenziale per le industrie che richiedono un supporto e una movimentazione precisi dei wafer. Non vediamo l'ora di essere il vostro partner a lungo termine in Cina.


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Il Wafer Carrier da 6'' per Aixtron G5 di Semicera è progettato per soddisfare i requisiti esigenti dei processi di crescita epitassiale nei sistemi Aixtron G5. Costruito con grafite di alta qualità, questosupporto per wafergarantisce stabilità e uniformità durante laCVDEProcessi MOCVD, consentendo una deposizione precisa nel reattore epi.

Con aceramica al carburo di siliciorivestimento, il Wafer Carrier da 6'' per Aixtron G5 offre maggiore durata e resistenza termica, rendendolo ideale per applicazioni ad alta temperatura nella crescita epitassiale. Questo prodotto è progettato per supportare in modo efficientewafergestire e massimizzare le prestazioni nella produzione di semiconduttori.

Noi di Semicera ci concentriamo sulla fornitura di soluzioni di alto livello per l'industria dei semiconduttori. I nostri supporti wafer sono costruiti per garantire affidabilità, garantendo un funzionamento regolare nei sistemi Aixtron G5 e altriEpitassia CVDreattori. Sia che si lavori con carburo di silicio o altri materiali, questo supporto per wafer garantisce la precisione e la coerenza necessarie per la produzione avanzata di semiconduttori.

Caratteristiche principali:

• Ottimizzato per i sistemi Aixtron G5 e altri reattori CVD MOCVD.
• Suscettore in grafite di alta qualità con rivestimento ceramico in carburo di silicio per una maggiore durata.
• Ideale per processi di crescita epitassiale che richiedono precisione e stabilità termica.
• Gestione affidabile dei wafer in ambienti complessi di semiconduttori.

Semicera si impegna a fornire soluzioni all'avanguardia, garantendo che ogni portawafer da 6'' soddisfi gli standard più elevati per le vostre esigenze di epitassia.

Portawafer da 6'' per Aixtron G5(1)
Luogo di lavoro Semicera
Luogo di lavoro Semicera 2
Macchina per attrezzature
Lavorazione CNN, pulizia chimica, rivestimento CVD
Magazzino Semicera
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