Il Wafer Carrier da 6'' per Aixtron G5 di Semicera è progettato per soddisfare i requisiti esigenti dei processi di crescita epitassiale nei sistemi Aixtron G5. Costruito con grafite di alta qualità, questosupporto per wafergarantisce stabilità e uniformità durante laCVDEProcessi MOCVD, consentendo una deposizione precisa nel reattore epi.
Con aceramica al carburo di siliciorivestimento, il Wafer Carrier da 6'' per Aixtron G5 offre maggiore durata e resistenza termica, rendendolo ideale per applicazioni ad alta temperatura nella crescita epitassiale. Questo prodotto è progettato per supportare in modo efficientewafergestire e massimizzare le prestazioni nella produzione di semiconduttori.
Noi di Semicera ci concentriamo sulla fornitura di soluzioni di alto livello per l'industria dei semiconduttori. I nostri supporti wafer sono costruiti per garantire affidabilità, garantendo un funzionamento regolare nei sistemi Aixtron G5 e altriEpitassia CVDreattori. Sia che si lavori con carburo di silicio o altri materiali, questo supporto per wafer garantisce la precisione e la coerenza necessarie per la produzione avanzata di semiconduttori.
Caratteristiche principali:
• Ottimizzato per i sistemi Aixtron G5 e altri reattori CVD MOCVD.
• Suscettore in grafite di alta qualità con rivestimento ceramico in carburo di silicio per una maggiore durata.
• Ideale per processi di crescita epitassiale che richiedono precisione e stabilità termica.
• Gestione affidabile dei wafer in ambienti complessi di semiconduttori.
Semicera si impegna a fornire soluzioni all'avanguardia, garantendo che ogni portawafer da 6'' soddisfi gli standard più elevati per le vostre esigenze di epitassia.