Progettato per applicazioni di epitassia in fase liquida (LPE), il reattore a menisco LPE di Semicera presenta un design innovativo che consente un'efficienteRivestimenti SiC CVDe supporta una varietà di processi di epitassia, tra cui l'epitassia ASM eMOCVD. La struttura robusta e l'ingegneria di precisione del reattore a menisco LPE garantiscono un'efficiente gestione termica e una deposizione uniforme.
Semicera è impegnata a fornire soluzioni ad alte prestazioni all'industria dei semiconduttori. NostroReattore a menisco LPEè prodotto con materiali durevoli e ingegneria di precisione per garantire affidabilità e longevità. Le caratteristiche uniche di questa camera consentono un'eccellente gestione termica e una deposizione uniforme, rendendola una grande risorsa per qualsiasi laboratorio o ambiente di produzione.
Scegli il reattore a menisco LPE di Semicera per migliorare il tuo epitassialeProcesso MOCVDe ottenere ottimi risultati nella deposizione di film sottili. La nostra dedizione alla qualità e all'innovazione ti garantisce di ricevere un prodotto che soddisfa i più alti standard del settore.