Processo di rivestimento SiC per supporti in grafite rivestiti SiC a base di grafite

Breve descrizione:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. è un fornitore leader di ceramiche semiconduttrici avanzate.I nostri prodotti principali includono: dischi incisi in carburo di silicio, rimorchi per imbarcazioni in carburo di silicio, navi wafer in carburo di silicio (PV e semiconduttori), tubi per forni in carburo di silicio, pale a sbalzo in carburo di silicio, mandrini in carburo di silicio, travi in ​​carburo di silicio, nonché rivestimenti SiC CVD e Rivestimenti TaC.
I prodotti sono utilizzati principalmente nell'industria dei semiconduttori e nel fotovoltaico, come ad esempio nelle apparecchiature per la crescita dei cristalli, l'epitassia, l'incisione, l'imballaggio, il rivestimento e i forni a diffusione.

 

Dettagli del prodotto

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Descrizione

Manteniamo tolleranze molto strette quando applichiamo ilRivestimento SiC, utilizzando una lavorazione ad alta precisione per garantire un profilo uniforme del suscettore.Produciamo anche materiali con proprietà di resistenza elettrica ideali per l'uso in sistemi riscaldati a induzione.Tutti i componenti finiti sono dotati di certificato di purezza e conformità dimensionale.

La nostra azienda fornisceRivestimento SiCservizi di processo mediante metodo CVD sulla superficie di grafite, ceramica e altri materiali, in modo che gas speciali contenenti carbonio e silicio reagiscano ad alta temperatura per ottenere molecole SiC di elevata purezza, molecole depositate sulla superficie dei materiali rivestiti, formando uno strato protettivo SIC.Il SIC formato è saldamente legato alla base di grafite, conferendo alla base di grafite proprietà speciali, rendendo così la superficie della grafite compatta, priva di porosità, resistente alle alte temperature, alla corrosione e all'ossidazione.

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Il processo CVD offre purezza e densità teorica estremamente elevateRivestimento SiCsenza porosità.Inoltre, poiché il carburo di silicio è molto duro, può essere lucidato fino a ottenere una superficie a specchio.Rivestimento CVD in carburo di silicio (SiC).ha offerto numerosi vantaggi, tra cui una superficie ad altissima purezza e un'estrema resistenza all'usura.Poiché i prodotti rivestiti offrono ottime prestazioni in condizioni di alto vuoto e alta temperatura, sono ideali per applicazioni nell'industria dei semiconduttori e in altri ambienti ultra puliti.Forniamo anche prodotti in grafite pirolitica (PG).

 

Caratteristiche principali

1. Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura:
la resistenza all'ossidazione è ancora molto buona anche quando la temperatura arriva fino a 1600 C.
2. Elevata purezza: prodotto mediante deposizione di vapori chimici in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
3. Resistenza all'erosione: elevata durezza, superficie compatta, particelle fini.
4. Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.

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Specifiche principali dei rivestimenti CVD-SIC

SiC-CVD
Densità (g/cc) 3.21
Resistenza alla flessione (MPa) 470
Dilatazione termica (10-6/K) 4
Conduttività termica (W/mK) 300

Applicazione

Il rivestimento in carburo di silicio CVD è già stato applicato nelle industrie dei semiconduttori, come il vassoio MOCVD, l'RTP e la camera di incisione dell'ossido poiché il nitruro di silicio ha un'ottima resistenza agli shock termici e può sopportare il plasma ad alta energia.
-Il carburo di silicio è ampiamente utilizzato nei semiconduttori e nei rivestimenti.

Applicazione

Capacità di fornitura:
10000 pezzo/pezzi al mese
Imballaggio e consegna:
Imballaggio: imballaggio standard e robusto
Poli sacchetto + scatola + cartone + pallet
Porta:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Tempi di consegna:

Quantità (pezzi) 1 – 1000 >1000
Est.Tempo (giorni) 15 Da negoziare
Luogo di lavoro Semicera
Luogo di lavoro Semicera 2
Macchina per attrezzature
Lavorazione CNN, pulizia chimica, rivestimento CVD
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