Wafer di silicio FZ

Il wafer a zona flottante viene coltivato mediante il metodo di fusione a zona flottante (metodo di fusione a zona flottante), noto anche come wafer a fusione a zona, wafer FZ, è un wafer di silicio di elevata purezza, può sostituire il processo di trafilatura diretta del cristallo singolo CZ di wafer di silicio.Rispetto ai wafer prodotti utilizzando il metodo CZ, i wafer a zone presentano molti vantaggi, come l'assenza di crogiolo, un basso carico di produzione e nessuna limitazione del punto di fusione, rendendoli ideali per applicazioni come moduli solari, dispositivi RF e dispositivi di potenza di precisione.La concentrazione di impurità di ossigeno e carbonio nei wafer FZ è bassa e l'azoto viene aggiunto appositamente per migliorarne la resistenza meccanica.