Descrizione
Portatori di waferconRivestimento in carburo di silicio (SiC).di semicera sono sapientemente progettati per una crescita epitassiale ad alte prestazioni, garantendo risultati ottimaliSi EpitassiaEEpitassia SiCapplicazioni. I supporti progettati con precisione di Semicera sono costruiti per resistere a condizioni estreme, rendendoli componenti essenziali nei sistemi susceptor MOCVD per le industrie che richiedono elevata precisione e durata.
Questi supporti per wafer sono versatili e supportano processi critici con apparecchiature comeSupporto per incisione PSS, Supporto per incisione ICP, EPortante RTP. Il loro robusto rivestimento SiC migliora le prestazioni per applicazioni comeLED epitassialeSuscettore e silicio monocristallino, garantendo risultati costanti anche in ambienti difficili.
Disponibili in molteplici configurazioni, come Barrel Susceptor e Pancake Susceptor, questi vettori svolgono un ruolo fondamentale nella produzione di fotovoltaico e semiconduttori, supportando la produzione di parti fotovoltaiche e facilitando il GaN nei processi di epitassia SiC. Grazie al loro design superiore, questi trasportatori rappresentano una risorsa fondamentale per i produttori che mirano a una produzione ad alta efficienza.
Caratteristiche principali
1. Grafite rivestita in SiC ad alta purezza
2. Resistenza al calore e uniformità termica superiori
3. BeneRivestimento in cristallo SiCper una superficie liscia
4. Elevata resistenza alla pulizia chimica
Specifiche principali dei rivestimenti CVD-SIC:
SiC-CVD | ||
Densità | (g/cc) | 3.21 |
Resistenza alla flessione | (MPa) | 470 |
Dilatazione termica | (10-6/K) | 4 |
Conduttività termica | (W/mK) | 300 |
Imballaggio e spedizione
Capacità di fornitura:
10000 pezzo/pezzi al mese
Imballaggio e consegna:
Imballaggio: imballaggio standard e robusto
Poli sacchetto + scatola + cartone + pallet
Porta:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Tempi di consegna:
Quantità (pezzi) | 1-1000 | >1000 |
Est. Tempo (giorni) | 30 | Da negoziare |