Supporti per wafer con rivestimento in carburo di silicio (SiC).

Breve descrizione:

Il supporto wafer con rivestimento in carburo di silicio (SiC) è un substrato utilizzato nella produzione di semiconduttori. È caratterizzato da uno strato di materiale in carburo di silicio rivestito sulla superficie del supporto del wafer. Il carburo di silicio ha un'eccellente conduttività termica e resistenza alle alte temperature, che lo rendono un materiale ideale per la gestione termica nei processi dei semiconduttori.


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Descrizione

Portatori di waferconRivestimento in carburo di silicio (SiC).di semicera sono sapientemente progettati per una crescita epitassiale ad alte prestazioni, garantendo risultati ottimaliSi EpitassiaEEpitassia SiCapplicazioni. I supporti progettati con precisione di Semicera sono costruiti per resistere a condizioni estreme, rendendoli componenti essenziali nei sistemi susceptor MOCVD per le industrie che richiedono elevata precisione e durata.

Questi supporti per wafer sono versatili e supportano processi critici con apparecchiature comeSupporto per incisione PSS, Supporto per incisione ICP, EPortante RTP. Il loro robusto rivestimento SiC migliora le prestazioni per applicazioni comeLED epitassialeSuscettore e silicio monocristallino, garantendo risultati costanti anche in ambienti difficili.

Disponibili in molteplici configurazioni, come Barrel Susceptor e Pancake Susceptor, questi vettori svolgono un ruolo fondamentale nella produzione di fotovoltaico e semiconduttori, supportando la produzione di parti fotovoltaiche e facilitando il GaN nei processi di epitassia SiC. Grazie al loro design superiore, questi trasportatori rappresentano una risorsa fondamentale per i produttori che mirano a una produzione ad alta efficienza.

 

Caratteristiche principali

1. Grafite rivestita in SiC ad alta purezza

2. Resistenza al calore e uniformità termica superiori

3. BeneRivestimento in cristallo SiCper una superficie liscia

4. Elevata resistenza alla pulizia chimica

 

Specifiche principali dei rivestimenti CVD-SIC:

SiC-CVD
Densità (g/cc) 3.21
Resistenza alla flessione (MPa) 470
Dilatazione termica (10-6/K) 4
Conduttività termica (W/mK) 300

Imballaggio e spedizione

Capacità di fornitura:
10000 pezzo/pezzi al mese
Imballaggio e consegna:
Imballaggio: imballaggio standard e robusto
Poli sacchetto + scatola + cartone + pallet
Porta:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Tempi di consegna:

Quantità (pezzi)

1-1000

>1000

Est. Tempo (giorni) 30 Da negoziare
Luogo di lavoro Semicera
Luogo di lavoro Semicera 2
Macchina per attrezzature
Lavorazione CNN, pulizia chimica, rivestimento CVD
Magazzino Semicera
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